国产 EUV 光刻机激光器突破，2025 年或将实现投产

美国嫉妒我们中国，谁知道咱们的EUV光刻机采用二氧化碳激光器取得了新的进展，新的激光功率放大和反馈系统， 提高了稳定性和质量。

国产激光光源有三家竞争，具体哪几家我就不提了，避免泄露信息。作为行业资深透露一点，2016年已经推出EUV光刻机原型，按照ASML10年成熟，估计在2025-2026年能投产。

科研领域也传来了振奋人心的消息，某研发中心取得好成绩。这所享誉国内外的科研机构，在EUV光刻机领域取得了显著进展。

中国EUV光刻机采用二氧化碳激光器，这一创新技术的运用，不仅彰显了我国科研人员的智慧与实力，更为国内半导体产业的发展注入了新的活力。

我们的科研人员经过不懈努力，成功研发出新的激光功率放大和反馈系统。这一系统不仅显著提高了光刻机的稳定性，还大幅提升了光刻质量，使得EUV光刻机在性能上达到了新的高度。

在激光光源的竞争中，我们的二氧化碳激光器脱颖而出，与其他研究团队的固体激光器等多模光纤激光器形成了三足鼎立的格局。这三种激光光源各具特色，为咱们国在光刻机领域的发展提供了多样化的选择。

值得一提的是，早在2016年，我咱们国就已经成功推出了EUV光刻机原型。按照ASML的成熟周期推算，预计在2025至2026年间，我国将能够实现EUV光刻机的投产。

这一目标的实现，将极大地推动国内半导体产业的发展，为我国在全球科技竞争中赢得更多的话语权。