导读：在芯片制造领域，台积电和三星的先进制程竞争无疑吸引了最多的目光，人们也期待中国企业能够早日迎头赶上。但是对于中国晶圆代工产业来说，眼下更重要的一场竞争或许是在成熟制程（28nm及以上）领域。
光刻胶是探讨这个问题的一个典型切口。截至目前，国产光刻胶产业仍然极其薄弱，即使在I线（365nm）水平上市占率也仅为10%左右，在DUV（28nm及以上）领域仅处于渗透初期，EUV（28nm以下）光刻胶几乎一片空白。这是因为，光刻胶是一个定制化程度极高的产品，若没有下游企业的大订单需求，就完全没有规模效应，导致新玩家难以进入。因此，除了材料企业自身投入研发之外，中国未来几年成熟制程晶圆代工的扩张速度，或许才是决定国产光刻胶进度的关键因素。
其实韩国人也已经看到了成熟制程的巨大价值。不久前，韩国学界提议组建主攻成熟制程的“韩积电”，因为成熟制程对上下游中小企业的带动作用更加明显。在三星逐渐在先进制程上掉队之后，中韩成熟制程未来势必展开更激烈的竞争。
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